ПО производителя устарело и неадекватно работает на новых операционных системах, поэтому потребовалось создать новую программу для управления установкой.
Basic App for the older installation make by Rus - Ukr factory. These installations are few in number and may have different firmware, as well as accessories. The installation is intended for research work on the sputtering of metals, semiconductors and dielectrics using DC or RF magnetrons.
The installation provides the limiting residual pressure in the working volume not more than 2 × 10-3 Pa. The heater in the deposition and heating device provides a temperature in the substrate area of at least 300°C.
The voltage at the output of the high-voltage (no-load) power supply is adjustable from 0 kV to (4.0 ± 0.2) kV. The maximum voltage of the DC magnetron power supply (no load) is (1.2 ± 0.1) kV. The DC magnetron power supply current is adjustable from 0 mA to (1000 ± 50) mA. The power of the RF magnetron power supply is adjustable from 0 W to (500 ± 50) W. The maximum ion current of the Ion Etch / Cleaner device is 100 mA.
The installation provides pumping out of the working volume from atmospheric pressure to a pressure of 6.0 × 10-3 Pa in a time not exceeding 45 minutes. The installation has a pressure indication system in the working volume in the range from 1.0 × 10+5 Pa to 1.0 × 10-4 Pa.
Вакуумный напылительный пост ВН-3000. Установка предназначена для исследовательских работ по распылению металлов, полупроводников и диэлектриков с помощью магнетронов DC или RF.
Установка обеспечивает предельное остаточное давление в рабочем объеме не более 2×10-3 Па. Нагреватель в устройстве осаждения и нагрева обеспечивает температуру в районе подложки не менее 300 оС.
Напряжение на выходе блока питания высоковольтного (без нагрузки) регулируется от 0 кВ до (4,0±0,2) кВ. Максимальное напряжение блока питания магнетрона DC (без нагрузки) (1,2±0,1) кВ. Ток блока питания магнетрона DC регулируется от 0 мА до (1000±50) мА. Мощность блока питания магнетрона RF регулируется от 0 Вт до (500±50) Вт. Максимальный ионный ток устройства ионного травления/очистки — 100 мA.
Установка обеспечивают откачку рабочего объема от атмосферного давления до давления 6,0×10-3 Па за время не более 45 мин. Установка имеют систему индикации давления в рабочем объеме в диапазоне от 1,0×10+5 Па до 1,0×10-4 Па.
Технологический стек включает в себя:
- Python 3.8
- Python CAN 3.3.3
- PyQt 5.13
- USB-CANmodul2 SYS TEC electronic
Подробнее на вики странице
Что требуется доработать:
- Доделать контроль над RF блоком.
- Создать функцию контроля расхода реактивного и инертнего газа.
- Создать функцию удеражания КБВ для RF магнетрона.
- Создать отдельный модуль для считвания давления со сторонних вакууметров Wide Range Gauge.
Appreciation to those who have contributed to the project.